| 數據名(時間) |
單位 |
起止時間 |
操作 |
|
全球集成電路產能(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產量(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能利用率(季度)
|
%
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球分立電器產能(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球分立電器產量(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球分立電器產能利用率(季度)
|
%
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球半導體組件產能(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球半導體組件產量(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球半導體組件產能利用率(季度)
|
%
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能:MOS>=0.7μm(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產量:MOS>=0.7μm(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能利用率:MOS>=0.7μm(季度)
|
%
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產量:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度)
|
1000WSpW
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能利用率:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度)
|
%
|
2006.06 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度)
|
1000WSpW
|
2007.12 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產量:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度)
|
1000WSpW
|
2007.12 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能利用率:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度)
|
%
|
2007.12 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度)
|
1000WSpW
|
2007.12 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產量:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度)
|
1000WSpW
|
2007.12 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能利用率:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度)
|
%
|
2007.12 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度)
|
1000WSpW
|
2007.12 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產量:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度)
|
1000WSpW
|
2007.12 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能利用率:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度)
|
%
|
2007.12 - 2011.12
|
進入查看
|
|
全球集成電路產能:MOS<0.08μm(季度)
|
1000WSpW
|
2007.12 - 2009.06
|
進入查看
|
|
查看更多相關指標（約49個）>>
|
