全球半導體組件產能

時間范圍:2006.06 - 2011.12單位:1000WSpW數據來源:美國半導體行業協會
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下載表格數據全球半導體組件產能 的數據如下:
序號 時間(季度) 單位:1000WSpW
注:時間后面標注“E”其對應的值為系統根據歷史數據預測所得,僅供參考。
1 2011.12 開通后顯示數據,立即開通
2 2011.09 開通后顯示數據,立即開通
3 2011.06 開通后顯示數據,立即開通
4 2011.03 開通后顯示數據,立即開通
5 2010.12 開通后顯示數據,立即開通
6 2010.09 開通后顯示數據,立即開通
7 2010.06 開通后顯示數據,立即開通
8 2010.03 開通后顯示數據,立即開通
9 2009.12 開通后顯示數據,立即開通
10 2009.09 開通后顯示數據,立即開通
11 2009.06 開通后顯示數據,立即開通
12 2009.03 開通后顯示數據,立即開通
13 2008.12 開通后顯示數據,立即開通
14 2008.09 開通后顯示數據,立即開通
15 2008.06 開通后顯示數據,立即開通
16 2008.03 開通后顯示數據,立即開通
17 2007.12 開通后顯示數據,立即開通
18 2007.09 開通后顯示數據,立即開通
19 2007.06 2173.85
20 2007.03 2062.47
21 2006.12 2026.13
22 2006.09 1944.78
23 2006.06 1876.06
(停)SICAS全球產能利用率報告(季) 下的其他數據:
數據名(時間) 單位 起止時間 操作
全球集成電路產能(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產量(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能利用率(季度) % 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球分立電器產能(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球分立電器產量(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球分立電器產能利用率(季度) % 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球半導體組件產量(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球半導體組件產能利用率(季度) % 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能:MOS>=0.7μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產量:MOS>=0.7μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能利用率:MOS>=0.7μm(季度) % 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產量:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度) 1000WSpW 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能利用率:MOS<0.7μm to >=0.4μm(季度) % 2006.06 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產量:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能利用率:MOS<0.4μm to >=0.2μm(季度) % 2007.12 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產量:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能利用率:MOS<0.2μm to >=0.12μm(季度) % 2007.12 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產量:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能利用率:MOS<0.12μm to >=0.08μm(季度) % 2007.12 - 2011.12 進入查看
全球集成電路產能:MOS<0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2009.06 進入查看
全球集成電路產量:MOS<0.08μm(季度) 1000WSpW 2007.12 - 2009.06 進入查看
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