| 數據名(時間) |
單位 |
起止時間 |
操作 |
| 全球集成電路產能利用率:MOS<0.12μm to >=0.08μm (季度) |
% |
2007Q4 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產能:MOS<0.08μm to >=0.06μm (季度) |
1000WSpW |
2009Q3 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產量:MOS<0.08μm to >=0.06μm (季度) |
1000WSpW |
2009Q3 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產能利用率:MOS<0.08μm to >=0.06μm (季度) |
% |
2009Q3 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產能:MOS<0.06μm (季度) |
1000WSpW |
2009Q3 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產量:MOS<0.06μm (季度) |
1000WSpW |
2009Q3 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產能利用率:MOS<0.06μm (季度) |
% |
2009Q3 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產能:MOS Total (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產量:MOS Total (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產能利用率:MOS Total (季度) |
% |
2006Q2 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產能:BIPOLAR (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產量:BIPOLAR (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產能利用率:BIPOLAR (季度) |
% |
2006Q2 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產能:Smaller than 200mm Wafers (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產量:Smaller than 200mm Wafers (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產能利用率:Smaller than 200mm Wafers (季度) |
% |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產能:200mm Wafers (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產量:200mm Wafers (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產能利用率:200mm Wafers (季度) |
% |
2006Q2 - 2011Q4 |
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| 全球集成電路產能:300mm Wafers,8inch equivalent (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產能:300mm Wafers (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產量:300mm Wafers,8inch equivalent (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產量:300mm Wafers (季度) |
1000WSpW |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產能利用率:300mm Wafers (季度) |
% |
2006Q2 - 2011Q4 |
進入查看 |
| 全球集成電路產能:MOS<0.08μm (季度) |
1000WSpW |
2007Q4 - 2009Q2 |
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